Layoutniveau
Bij het ontwerp van een geïntegreerde schakeling moet men uiteindelijk komen tot een tekening (layout) van de diverse maskers nodig in het fabricageproces. Hierbij dient men rekening te houden met een aantal regels (design rules) die eigen zijn aan de gebruikte technologie.Een gelijkaardig probleem stelt zich bij het uittekenen van een gedrukte schakeling waarop het ontwerp wordt gerealiseerd.
Er bestaan tekenprogrammas (editors) voor de layout van gedrukte en van geïntegreerde schakelingen. Soms (vooral in het eerste geval) zijn er hulpmiddelen aanwezig om automatisch componenten te plaatsen (``placement'') en verbindingen te maken (``routing'').
Voor elke technologie bestaan een aantal ontwerpsregels. Deze hebben betrekking op de minimale afmetingen van objecten, de tussenafstanden die moeten gerespecteerd worden tussen objecten onderling, enz. De operatie waarbij gecontroleerd wordt of de gegeven layout voldoet aan al deze regels noemt men DRC (Design Rule Check). Deze controle kan voortdurend gebeuren bij het handmatig invoeren van een layout, of enkel wanneer de ontwerper erom vraagt.
Omdat de layout (i.h.b. van een geïntegreerde schakeling) erg complex kan zijn en omdat bij handmatig (weliswaar computergesteund) tekenwerk gemakkelijk fouten kunnen voorkomen, zijn er ook programmas die toelaten uit de layout een lijst van de verbindingen (netlijst) te destilleren. Deze lijst kan dan vergeleken worden met de netlijst bekomen uit het origineel schema. Een dergelijke faciliteit noemt men LVS (Layout Versus Schematic).
Naast de controle van de verbindingen is er ook de mogelijkheid om uitgaande van een gegeven layout de parameters van de componenten (transistoren, condensatoren,...) te bepalen. Er wordt ook een schatting gemaakt van de grootte van een aantal parasitaire effecten (bv. parasitaire capaciteiten, weerstanden van verbindigsbanen,...). De ontwerper kan deze gegevens gebruiken om m.b.v. een circuitsimulator een meer accurate voorspelling te maken over het gedrag van de werkelijke schakeling.